Substrat SGGG de grande taille de 4 pouces, cristal unique de grenat de gadolinium-gallium, poli de qualité EPI (111), rotateur de Faraday pour modules optiques 1.6T/CPO, épitaxie de film magnéto-optique à haute capacité
Substrat SGGG de grande taille de 4 pouces, cristal unique de grenat de gadolinium-gallium, poli de qualité EPI (111), rotateur de Faraday pour modules optiques 1.6T/CPO, épitaxie de film magnéto-optique à haute capacité
Substrat SGGG de 4 pouces pour rotateur de Faraday
,
Gallium Garnet Single Crystal Substrate de gadolinium
,
Substrat poli de qualité EPI pour modules optiques
Description du produit
4 pouces SGGG Substrate de grande taille, Gadolinium Gallium Garnet Single Crystal, (111) EPI-Grade Polished, Rotateur de Faraday pour les modules optiques 1.6T/CPO, Epitaxy de film magnéto-optique de haute capacité
Le substrat de grande taille SGGG de 4 pouces est une spécification haut de gamme pour les communications optiques à grande vitesse de nouvelle génération (1.6T / CPO) et les lignes de production à grande échelle.6 mm et épaisseur standard de 800 ± 30 μm (ou sur mesure), il est basé sur une technologie de croissance de cristal unique de grande taille.La sortie de la puce de rotation par wafer augmente d'environ 75% par rapport à 3 pouces, réduisant considérablement le coût par puce.
La croissance des cristaux SGGG de grande taille est techniquement exigeante, nécessitant un contrôle strict du champ thermique, une pureté de la matière première et des processus de recuit.Grâce à une croissance de Czochralski optimisée et à un recuit en plusieurs étapes, ce produit atteint une qualité cristalline de faible stress, faible absorption et haute uniformité.il répond aux exigences de production de masse de grande taille des équipements d'épitaxie de film magnéto-optique haut de gamme.
Fonctions essentielles
Substrate à haute capacité pour l'ère 1.6T/CPO:
4 pouces de grande taille s'adapte à la prochaine génération de rotateur de module à grande vitesse de production en série, plus de puces par wafer
Moins de coûts par puce:
- 75% plus grande surface efficace que 3 pouces, réduit les coûts d'épitaxie, de découpe et d'inspection
Épitasie par film magnéto-optique haut de gamme:
L'uniformité élevée du réseau assure une épaisseur de film de grande surface et une cohérence des performances magnéto-optiques
Matériau de base destiné à la substitution domestique:
Brise le monopole étranger sur les substrats SGGG de grande taille, soutient l'indépendance de la chaîne d'approvisionnement nationale en modules optiques
Substrat SGGG de grande taille de 4 pouces, cristal unique de grenat de gadolinium-gallium, poli de qualité EPI (111), rotateur de Faraday pour modules optiques 1.6T/CPO, épitaxie de film magnéto-optique à haute capacité
Substrat SGGG de grande taille de 4 pouces, cristal unique de grenat de gadolinium-gallium, poli de qualité EPI (111), rotateur de Faraday pour modules optiques 1.6T/CPO, épitaxie de film magnéto-optique à haute capacité
Substrat SGGG de 4 pouces pour rotateur de Faraday
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Gallium Garnet Single Crystal Substrate de gadolinium
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Substrat poli de qualité EPI pour modules optiques
Description du produit
4 pouces SGGG Substrate de grande taille, Gadolinium Gallium Garnet Single Crystal, (111) EPI-Grade Polished, Rotateur de Faraday pour les modules optiques 1.6T/CPO, Epitaxy de film magnéto-optique de haute capacité
Le substrat de grande taille SGGG de 4 pouces est une spécification haut de gamme pour les communications optiques à grande vitesse de nouvelle génération (1.6T / CPO) et les lignes de production à grande échelle.6 mm et épaisseur standard de 800 ± 30 μm (ou sur mesure), il est basé sur une technologie de croissance de cristal unique de grande taille.La sortie de la puce de rotation par wafer augmente d'environ 75% par rapport à 3 pouces, réduisant considérablement le coût par puce.
La croissance des cristaux SGGG de grande taille est techniquement exigeante, nécessitant un contrôle strict du champ thermique, une pureté de la matière première et des processus de recuit.Grâce à une croissance de Czochralski optimisée et à un recuit en plusieurs étapes, ce produit atteint une qualité cristalline de faible stress, faible absorption et haute uniformité.il répond aux exigences de production de masse de grande taille des équipements d'épitaxie de film magnéto-optique haut de gamme.
Fonctions essentielles
Substrate à haute capacité pour l'ère 1.6T/CPO:
4 pouces de grande taille s'adapte à la prochaine génération de rotateur de module à grande vitesse de production en série, plus de puces par wafer
Moins de coûts par puce:
- 75% plus grande surface efficace que 3 pouces, réduit les coûts d'épitaxie, de découpe et d'inspection
Épitasie par film magnéto-optique haut de gamme:
L'uniformité élevée du réseau assure une épaisseur de film de grande surface et une cohérence des performances magnéto-optiques
Matériau de base destiné à la substitution domestique:
Brise le monopole étranger sur les substrats SGGG de grande taille, soutient l'indépendance de la chaîne d'approvisionnement nationale en modules optiques