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Article: | <111> Gadolinium Garnet Single Crystal Substrates de gallium d'orientation | Orientation: | (111)/(100) |
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Treillagez constant: | 12.383A | Emballage: | Emballage de vide |
Origine: | La Chine | Taille: | Dia4inch maximum |
Épaisseur: | 0.5mm, 1.0mm | Rugosité: | <0> |
Mettre en évidence: | Cristal de ggg de 111 orientations,Gadolinium Garnet Crystal Substrates de gallium,Substrats en cristal de ggg simple |
<111> Gadolinium Garnet Single Crystal Substrates de gallium d'orientation
Les substrats de monocristal de GGG de différent tangentiel, qui peut réaliser le meilleur match de trellis avec ce matériel magento-optique, de ce fait assurant le YIG, la croissance épitaxiale de GRAND film soient réussis. Elle a de bonnes propriétés physiques et mécaniques et stabilité chimique.
GGG est également matériel de substrat pour des dispositifs à micro-ondes.
Dans les dispositifs de télécommunication optique, exigez le beaucoup d'utilisant l'isolant 1.3u et 1.5u optique, que le composant de noyau est le YIG ou le GRAND film placé dans un champ magnétique.
Orientation | [111] dans la minute de l'arc ±15 |
Vague Front Distortion | <1> |
Tolérance de diamètre | ±0.05mm |
Tolérance de longueur | ±0.2mm |
Chanfrein | º de 0.10mm@45 |
Planéité | <1> |
Parallélisme | < 30="" arc="" Seconds=""> |
Perpendicularity | < 15="" arc="" min=""> |
Qualité extérieure | 10/5 éraflure/fouille |
Apereture clair | >90% |
Grandes dimensions des cristaux | 2.8-76 millimètres de diamètre |
Propriétés principales :
Formule chimique | Gd3GA5O12 |
Paramètre de Lattic | a=12.376Å |
Méthode de croissance | Czochralski |
Densité | 7.13g/cm3 |
Dureté de Mohs | 8 |
Point de fusion | 1725℃ |
Indice de réfraction | 1,954 à 1064nm |
document :
Crystro a la machine automatique parfaite de production, les produits actuels sont principalement concentrés dans le YAG, TGG, TSAG, GGG, LGS, ce : GAGG, ce : YAG et ce : Cristaux de LuYAG.
Nous avons également établi un centre de recherche en cristal et de différents genres développés de cristaux. Keep fournissant le support technique et s'exerçant pour des personnels de nouvelles applications et de développement de produit.
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